Titlebook: Ion Beams in Nanoscience and Technology; Ragnar Hellborg,Harry J. Whitlow,Yanwen Zhang Book 20101st edition Springer-Verlag Berlin Heidelb

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Particle Acceleration and Detectionhttp://image.papertrans.cn/i/image/475142.jpg

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978-3-642-26137-4Springer-Verlag Berlin Heidelberg 2010

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Ion Beams in Nanoscience and Technology978-3-642-00623-4Series ISSN 1611-1052 Series E-ISSN 2365-0877

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https://doi.org/10.1007/978-3-642-00623-4Cluster; Tissue Engineering; crystal; electron microscopy; microscopy; nanomaterial; nanoparticle

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Box 2: Sputtering ion-target combination and the ion energy, the number of target atoms expelled at perpendicular incidence may vary from the detection limit of 10. to tens of thousands. The most basic parameter of sputtering is the ., defined as the ratio between the number of incident particles and emitted atoms.

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