Titlebook: Vakuumbeschichtung; Verfahren und Anlage Uwe Behringer,Helmut G?rtner,Gerhard K. Wolf,Gerha Book 1995 Springer-Verlag Berlin Heidelberg 199

glowing

Paradox

,Erzeugung von Mikrostrukturen an Oberfl?chen und dünnen Schichten,ierungsprozesse, um Strukturen kleiner 1 μm herstellen zu k?nnen. Die Lithographie und die darauffolgenden ?tzprozesse geh?ren zu den wichtigsten Schritten bei der Strukturierung von dünnen Oberfl?chenschichten, die auf der Oberfl?che z.B. einer Siliziumscheibe (Wafer) aufgebracht werden.

易達(dá)到

guardianship

Plasmaspritzen,ztechnik ein enormes Anwendungspotential erschlossen [9-45]. Einer der Hauptgründe hierfür liegt in der universellen Einsetzbarkeit dieses Verfahrens, das hinsichtlich der verwendeten Grundwerkstoffe und Beschichtungsmaterialien fast beliebige Kombinationsm?glichkeiten erlaubt.

Abrupt

Radiation

penance

,Vakuumbeschichtungsverfahren — übersicht,sern gleichzeitig eine geringe Rauheit, eine dem Massivmaterial entsprechende Dichte und eine gro?e H?rte aufweisen. Sie müssen au?erdem gegenüber vorgegebenen chemischen D?mpfen oder Flüssigkeiten resistent sein.

Heterodoxy

,Ionenzerst?ubung von Festk?rpern (Sputtering), erfolgen kann, verwendet man in der Zwischenzeit die Bezeichnung Ionenzerst?ubung. Im Englischen hat sich der Terminus ?sputtering“ etabliert, der heute im allgemeinen für die teil-chenbeschu?induzierte Ausl?sung von Atomen und Molekülen aus einer Festk?rperoberfl?che benutzt wird.

流出

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