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Titlebook: Thin Film Metal-Oxides; Fundamentals and App Shriram Ramanathan Book 2010 Springer-Verlag US 2010 advanced transistor devices.atomic layer

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書目名稱Thin Film Metal-Oxides
副標(biāo)題Fundamentals and App
編輯Shriram Ramanathan
視頻videohttp://file.papertrans.cn/925/924764/924764.mp4
概述Analyzes thin film deposition techniques for oxides with a special emphasis on high quality oxide fabrication.Explores the functionalities and effects of nanostructures in thin film properties.Discuss
圖書封面Titlebook: Thin Film Metal-Oxides; Fundamentals and App Shriram Ramanathan Book 2010 Springer-Verlag US 2010 advanced transistor devices.atomic layer
描述..Thin Film Metal-Oxides. provides a representative account of the fundamental structure-property relations in oxide thin films. Functional properties of thin film oxides are discussed in the context of applications in emerging electronics and renewable energy technologies. Readers will find a detailed description of deposition and characterization of metal oxide thin films, theoretical treatment of select properties and their functional performance in solid state devices, from leading researchers..Scientists and engineers involved with oxide semiconductors, electronic materials and alternative energy will find .Thin Film Metal-Oxides. a useful reference...?.
出版日期Book 2010
關(guān)鍵詞advanced transistor devices; atomic layer deposition; catalysis; chemistry; defect chemistry; electron mi
版次1
doihttps://doi.org/10.1007/978-1-4419-0664-9
isbn_softcover978-1-4899-8493-7
isbn_ebook978-1-4419-0664-9
copyrightSpringer-Verlag US 2010
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書目名稱Thin Film Metal-Oxides影響因子(影響力)




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