| 書目名稱 | Silizium-Halbleitertechnologie | | 編輯 | Ulrich Hilleringmann | | 視頻video | http://file.papertrans.cn/868/867366/867366.mp4 | | 叢書名稱 | Teubner Studienbücher Technik | | 圖書封面 |  | | 描述 | Die Grundlage der mikroelektronischen Integrationstechnik ist die Silizium-Halbleitertechnologie. Sie setzt sich aus einer Vielzahl von sich wiederholenden Einzelprozessen zusammen, deren Durchführung und apparative Ausstattung extremen Anforderungen genügen müssen, um die geforderten Strukturgr??en bis zu wenigen 100 nm gleichm??ig und reproduzierbar zu erzeugen. Das Zusammenspiel der Oxidationen, ?tzschritte und Implantationen zur Herstellung von MOS- und Bipolarschaltungen, sowie die maschinellen Voraussetzungen werden - ausgehend vom Rohsilizium bis zur gekapselten integrierten Schaltung - aus Sicht des Anwenders erl?utert. Zur überprüfung des Verst?ndnisses sind übungsaufgaben zu den einzelnen Themen eingegliedert. Das Buch behandelt neben den Grundlagen auch die technische Durchführung der Einzelprozesse, die zur Integrationstechnik zusammengeführt werden. Es richtet sich an Studierende der Fachrichtungen Elektronik, Elektrotechnik, Informatik und Physik, sowie an alle, die einen Einblick in die Herstellungstechnik für mikroelektronische Bauelemente gewinnen wollen. Die erweiterte zweite Auflage behandelt zus?tzlich neue Entwicklungen der Lithografieverfahren, die Kupfermetal | | 出版日期 | Book 19992nd edition | | 關(guān)鍵詞 | Bauelement; Elektronik; Elektrotechnik; Halbleiter; Halbleitertechnologie; Handel; Informatik; Montage; Phys | | 版次 | 2 | | doi | https://doi.org/10.1007/978-3-322-94053-7 | | isbn_ebook | 978-3-322-94053-7 | | copyright | Springer Fachmedien Wiesbaden 1999 |
The information of publication is updating
|
|
|Archiver|手機(jī)版|小黑屋|
派博傳思國際
( 京公網(wǎng)安備110108008328)
GMT+8, 2026-1-20 14:55
發(fā)表于 2025-3-21 19:24:11
