Titlebook: Rechnergestützter Entwurf hochintegrierter MOS-Schaltungen; Wolfgang Rosenstiel,Raul Camposano Textbook 1989 Springer-Verlag Berlin, Heide

Keratectomy

stützte Entwurf dabei im Vordergrund steht, werden die notwendigen physikalischen und elektrotechnischen Grundbegriffe nicht vernachl?ssigt. Auch wird die Herstellung integrierter Schaltungen kurz angesprochen, da ein gewisses produktionstechnisches Verst?ndnis für den Entwurf notwendig ist. Damit i

反復(fù)無(wú)常

manifestation

Technologische Entwicklung,damals noch nicht bekannter Oberfl?cheneffekte war dieser Versuch zun?chst nicht geglückt. Mittlerweile waren Bardeen und Brattain mit dem bipolaren Transistor erfolgreich, so da? die Nutzung des Feldeffekts nicht weiter verfolgt wurde. Shockley arbeitete jedoch weiter an der L?sung der aufgetretene

表皮

ARENA

Masken- und Waferherstellung,ung integrierter MOS Schaltungen entsprechen im wesentlichen der Bipolar-Technik. Die fotolithografische Maskentechnik, die Oxidations-und Diffusionsschritte werden wie bei bipolaren Schaltungen durchgeführt, wobei die Temperatur den MOS-Strukturen angepa?t wurde. Die einzelnen Schritte der Maskenhe

Mirage

者變

多產(chǎn)子

Masken- und Waferherstellung,stellungsprozesses das Verst?ndnis der Schnittstellen zwischen dem Entwurf und der Herstellung zu verbessern. Diesem Kapitel liegt im wesentlichen Lehrbuchwissen zugrunde, das vor allem entnommen wurde aus [MeCo80, Muro82, WeEs85, GIDo85, Mukh86] sowie [ScAm87].

甜瓜

Textbook 1989S-Schaltungen in verschiedenen Schaltungstechniken auf der Schaltkreisebene verstehen und zu entwerfen. Es werden verschiedene Entwurfsstile vorgestellt und die gel?ufigen Methoden und Algorithmen für Layout-Erstellung detailliert beschrieben.

索賠

igitale MOS-Schaltungen in verschiedenen Schaltungstechniken auf der Schaltkreisebene verstehen und zu entwerfen. Es werden verschiedene Entwurfsstile vorgestellt und die gel?ufigen Methoden und Algorithmen für Layout-Erstellung detailliert beschrieben.978-3-540-50278-4978-3-642-95574-7