Titlebook: Elektronenmikroskopische Untersuchungs- und Pr?parationsmethoden; Ludwig Reimer Book 19591st edition Springer-Verlag Berlin Heidelberg 195

愛好

附錄

樹膠

Schr?gbeschattungische Pr?parationstechnik eingeführt. Auf die M?glichkeit einer Vor- und Nachbeschattung der Abdrücke (Filme oder Matrizen) wurde bereits in § 13 hingewiesen. Es sei noch einmal bemerkt, da? der Vorbeschattung wenn m?glich der Vorzug zu geben ist, damit durch eine Nachbeschattung keine Artefakte dur

PAD416

絕緣

Herstellung durchstrahlbarer Metallfolienen in reinen Metallen oder Legierungen sichtbar zu machen, ist für einen Oberfl?chenabdruck eine Reliefbildung durch ein geeignetes Atzverfahren erforderlich. Bei den Abdrücken geht ferner auch die M?glichkeit verloren, die Kristallstruktur der Metalle zu untersuchen. Es besteht zwar die M?glichkeit

妨礙議事

Anorganische disperse Systemeim Lichtmikroskop Teilchengr??en von 1 . nur mit einer Genauigkeit von 40% vermessen werden k?nnen, aber sehr viele pulverf?rmige Substanzen Korngr??en dieser Gr??enordnung und kleiner besitzen. Es sind daher viele nichtelektronenmikroskopische Verfahren entwickelt worden, um auf indirektem Wege Aus

interior

參考書目

托運(yùn)

FICE

,Substanzmissbrauch und Drogenüberdosis,Pr?paratdicken von 50—1000 ? durchstrahlt werden k?nnen. Deshalb ist es nicht m?glich, mit diesen Ger?ten Oberfl?chen von kompaktem Material direkt elektronenoptisch abzubilden. Dies gelingt nur über den Umweg eines Oberfl?chenabdruckes (§ 13). Für viele Zwecke besteht das Interesse, diesen Abdruck