Titlebook: Eine Impedanzanalyse bei Leitf?higkeitsmessungen; Helmut Winterhager,Klaus Hoffmann Book 1960 Springer Fachmedien Wiesbaden 1960 Arbeit.Br

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書目名稱Eine Impedanzanalyse bei Leitf?higkeitsmessungen影響因子(影響力)

書目名稱Eine Impedanzanalyse bei Leitf?higkeitsmessungen影響因子(影響力)學(xué)科排名

書目名稱Eine Impedanzanalyse bei Leitf?higkeitsmessungen網(wǎng)絡(luò)公開度

書目名稱Eine Impedanzanalyse bei Leitf?higkeitsmessungen網(wǎng)絡(luò)公開度學(xué)科排名

書目名稱Eine Impedanzanalyse bei Leitf?higkeitsmessungen被引頻次

書目名稱Eine Impedanzanalyse bei Leitf?higkeitsmessungen被引頻次學(xué)科排名

書目名稱Eine Impedanzanalyse bei Leitf?higkeitsmessungen年度引用

書目名稱Eine Impedanzanalyse bei Leitf?higkeitsmessungen年度引用學(xué)科排名

書目名稱Eine Impedanzanalyse bei Leitf?higkeitsmessungen讀者反饋

書目名稱Eine Impedanzanalyse bei Leitf?higkeitsmessungen讀者反饋學(xué)科排名

只看該作者 · 發(fā)表于 2025-3-21 22:28:00

Franz Ollendorff Dr. Ing., Dipl. Ing.zu 1200°C ausgelegt war, wurde ür Messungen an Schlacken mit einem maximalen Temperaturbereich von 1650° bis 1700°C weiterentwickelt (Abb. 2b). Abbildung la zeigt das Schaltschema der ursprünglichen Brücke.

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Die Welt der mineralischen RohstoffeElektroden durch Platinierung. Damit verfolgt man den Zweck, die Polarisation selbst für kleine Me?zellen auf ein Minimum zu erniedrigen, um auf diese Weise rückwirkend eine Geradlinigkeit der R.-f-Charakteristik zu erzielen, wie dies beispielsweise aus dem nachfolgenden Diagramm R.-f, gemessen an H

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Systematisierung der Werkstoffe,ungen bis 1600 bis 1700°C bei gleichzeitig kleinstem Tiegelvolumen (siehe Abschnitt 4: Die neue Elektrodenform) wurden Messungen an Schlacken des Systems SiO., Al.O., MgO, CaO durchgeführt und nach den im Abschnitt 3 angegebenen Rechenverfahren auf R. und C. berechnet.

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Messungen an geschmolzenen Schlacken unter Verwendung der zweiten Weiterentwicklung der Thomsonwechungen bis 1600 bis 1700°C bei gleichzeitig kleinstem Tiegelvolumen (siehe Abschnitt 4: Die neue Elektrodenform) wurden Messungen an Schlacken des Systems SiO., Al.O., MgO, CaO durchgeführt und nach den im Abschnitt 3 angegebenen Rechenverfahren auf R. und C. berechnet.

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