Titlebook: CAD-Entwurfskontrolle in der Mikroelektronik; Mit einer Einführung Wolfgang Nebel Textbook 1985 Springer Fachmedien Wiesbaden 1985 Algorith

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Feature

Overview: 978-3-519-02476-7978-3-322-94653-9

匍匐

裹住

幼兒

für Strukturen auf verschiedenen Maskenebenen. Technologische Unzul?glichkeiten sind z.B. unexakte Justage der Masken, Gefahr des Kurzschlusses bei nebeneinanderliegenden Leitungen oder die Gefahr der Unterbrechung von schmalen Leiterbahnen. Der Halbleiterhersteller ermittelt durch Versuche die jewe

重畫只能放棄

erten halbleiterphysikalischen Vorg?nge innerhalb der Transistoren ist eine solche Simulation jedoch sehr rechenintensiv. Somit ist eine Simulation auf Schaltkreisebene für Schaltungen mit mehr als ca. 30 Transistoren nicht mit vertretbarem Rechenaufwand m?glich. Durch Erzeugung einer Logikbeschreib

重畫只能放棄

Counteract

oll-Beschreibung einer Schaltung auf einer bestimmten Betrachtungsebene existiert und aus der n?chstniedrigen Betrachtungsebene eine Ist-Beschreibung extrahiert wurde. Die Schaltungen bestehen in den Betrachtungsebenen Schaltkreisebene bis RT-Ebene aus Schaltungselementen und Knoten. Die Schaltungse

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